SPECTRUMA 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA Alpha裝備有新一代的CCD固態(tài)檢測器，與高分辨率光學系統匹配。新一代的CCD檢測器不但具備傳統光電倍增管的低噪聲、寬動態(tài)范圍的特點，而且還具備優(yōu)異的分辨率和全譜數據采集能力，特別適合同時需要高精度檢測和分析靈活性的用戶。

  高分辨率CCD光學系統使得GDA Alpha具備無限的擴展能力，允許使用者在任何分析方法下任意擴展和增加任何分析通道。

  這種靈活性允許進行快速的基體總量和涂鍍層分析，所有元素，包括O，N，C等非金屬元素均可進行定量分析。

  在含量-深度測量中，分析深度可達200um以上， 層分辨率可達納米級。GDA Alpha也可進行基體總量分析，尤其對于復雜基體，具備優(yōu)異的線性校準曲線。檢出限可達ppm級。

  GDA Alpha裝備有新一代的輝光激發(fā)光源，濺射直徑從1mm至8mm，可適應多種類型的樣品分析，方便快捷。

應用
熱處理
-準確測量所關心元素的含量-深度分布，定性、定量檢測表面污染物、夾雜物和物相比例
-涂鍍層
可獲得涂鍍層完整的化學組分信息、層厚度，元素含量-深度分布。
-硬質合金層
快速分析硬質合金層和熱處理工件的滲層化學組分
-化學組分
準確測量化學元素含量
高精度、高重復性檢測
快速分析：<60s
可分析從H至U的所有元素， 檢測范圍從ppm至100%

輝光放電光譜儀主要應用領域
汽車制造及零部件
金屬加工、制造
冶金
航空、航天
表面處理：化學氣相沉積、物理氣相沉積等
電鍍
光伏電池、鋰電
科學研究

激發(fā)光源
同一激發(fā)光源允許安裝直徑為1mm至8mm電極，從而保證穩(wěn)定性和重復性
-高效的樣品直接冷卻。可直接分析金屬薄膜、熱處理層。如可直接分析50um的不銹鋼薄膜
-優(yōu)化的氬氣流量控制，可以同時實現低檢出限和高深度分辨率
-專門設計的自動清掃裝置，保證了高精度、高重復性測量
-大樣品分析厚度45mm，小厚度50um
-*程序自動控制的直流光源(DC)，電壓可達1500V，電流250mA
-選裝件：自動進樣器，程序控制100位

光學系統
高性能CCD光學系統，光譜范圍120--800nm
-光譜分辨率優(yōu)于20pm(FWHM)
-Paschen-Runge光學系統， 焦距400mm
-全息原刻光柵，2400線/mm
-光室恒溫控制，儀器穩(wěn)定性優(yōu)異
-可無限制的配置分析通道，所有元素同時檢測
-方便易操作的透鏡清潔，可立即進行分析
-CCD檢測器的靈敏度可自動調節(jié)

真空系統
-全不銹鋼殼體，可充分保證痕量元素的分析，尤其對于N元素分析
-光室真空采用二級旋轉葉片真空泵，噪音<50dB
-單泵設計，同時運用于光源和光室
-特殊的旋片真空泵，可大限度的減少C，H元素的污染
-內置安全閥設計，以避免突然斷電對旋轉葉片泵的損害

WinG DOES軟件
-WindowsXP或更高平臺運行
-使用界面簡單、易懂，分級管理和操作
-功能強大
-方法建立簡便，在線指導
-校準樣品管理，*樣品添加
-多種校準模式
-基體總量元素測量校準
-QDP定量分析校準
-用戶定制測量報告模式
-數據處理和再處理功能
-多種格式數據輸出
-分析過程中界面語言切換